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磁控濺射碳化硼靶材B4C科研實驗真空鍍膜陶瓷靶材尺寸規格可選

鎂鈦碳靶材高純碳化鈦鎂靶材MgTiC磁控濺射鍍膜尺寸比例可選制

磁控濺射鋯鈦酸鉛靶材PZT靶材鋯酸鉛靶材鈦酸鉛靶材壓電陶瓷

真空鍍膜Cd靶材實驗科研Cd靶尺寸規格可選擇99.99高純金屬

高純三氧化二銪顆粒科研實驗用氧化銪顆粒Eu2O3規格大小可選制

磁控濺射鍍膜鉍鏑鐵氧靶材實驗科研適用尺寸大小可選做可綁定

五氧化二鈮靶Nb2O5靶氧化鈮陶瓷靶材科研實驗氧化鈮靶材

磁控濺射真空鍍膜鉻硅合金靶材硅鉻靶材尺寸配比可選制CrSiSiCr

高純AZO顆粒實驗科研氧化鋅鋁蒸發鍍膜ZAO導電薄膜規格可選制

科研實驗二氧化硅基片SiO2氧化硅襯底濺射鍍膜專用基片可選做

磁控濺射鍍膜三氧化二銻靶材科研實驗氧化銻靶尺寸可選做Sb2O3

氧化鋁靶氧化鈦靶氧化鋯靶氧化釔靶氧化錫靶氧化鎵靶氧化鋅

磁控濺射Nd靶材稀土Nd靶尺寸可科研實驗靶材真空鍍膜靶

氧化鎂晶體高純氧化鎂單晶氧化鎂晶體基片襯底尺寸可定

磁控濺射鉬鈷合金靶材鉬鈷靶材MoCo鉬靶材鈷靶材合金靶材可定

真空鍍膜磁控濺射氧化銦靶材In2O3實驗科研陶瓷尺寸規格可選

真空鍍膜磁控濺射鈦酸鉛靶材PT鐵電材料實驗鈦酸鉛鋯酸鉛靶PZ

磁控濺射氧化鎳靶材NiO靶材濺射鍍膜氧化鎳靶材氧化亞鎳靶材

磁控濺射真空鍍膜碳化硅靶材SiC實驗科研陶瓷片尺寸規格可訂

高純實驗銅鋅錫硫靶材太陽能薄膜材料CZTS磁控濺射靶材尺寸可選