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磁控濺射碳化硼靶材B4C科研實(shí)驗(yàn)真空鍍膜陶瓷靶材尺寸規(guī)格可選

鎂鈦碳靶材高純碳化鈦鎂靶材MgTiC磁控濺射鍍膜尺寸比例可選制

磁控濺射鋯鈦酸鉛靶材PZT靶材鋯酸鉛靶材鈦酸鉛靶材壓電陶瓷

真空鍍膜Cd靶材實(shí)驗(yàn)科研Cd靶尺寸規(guī)格可選擇99.99高純金屬

高純?nèi)趸B顆粒科研實(shí)驗(yàn)用氧化銪顆粒Eu2O3規(guī)格大小可選制

磁控濺射鍍膜鉍鏑鐵氧靶材實(shí)驗(yàn)科研適用尺寸大小可選做可綁定

五氧化二鈮靶Nb2O5靶氧化鈮陶瓷靶材科研實(shí)驗(yàn)氧化鈮靶材

磁控濺射真空鍍膜鉻硅合金靶材硅鉻靶材尺寸配比可選制CrSiSiCr

高純AZO顆粒實(shí)驗(yàn)科研氧化鋅鋁蒸發(fā)鍍膜ZAO導(dǎo)電薄膜規(guī)格可選制

科研實(shí)驗(yàn)二氧化硅基片SiO2氧化硅襯底濺射鍍膜專用基片可選做

磁控濺射鍍膜三氧化二銻靶材科研實(shí)驗(yàn)氧化銻靶尺寸可選做Sb2O3

氧化鋁靶氧化鈦靶氧化鋯靶氧化釔靶氧化錫靶氧化鎵靶氧化鋅

磁控濺射Nd靶材稀土Nd靶尺寸可科研實(shí)驗(yàn)靶材真空鍍膜靶

氧化鎂晶體高純氧化鎂單晶氧化鎂晶體基片襯底尺寸可定

磁控濺射鉬鈷合金靶材鉬鈷靶材MoCo鉬靶材鈷靶材合金靶材可定

真空鍍膜磁控濺射氧化銦靶材In2O3實(shí)驗(yàn)科研陶瓷尺寸規(guī)格可選

真空鍍膜磁控濺射鈦酸鉛靶材PT鐵電材料實(shí)驗(yàn)鈦酸鉛鋯酸鉛靶PZ

磁控濺射氧化鎳靶材NiO靶材濺射鍍膜氧化鎳靶材氧化亞鎳靶材

磁控濺射真空鍍膜碳化硅靶材SiC實(shí)驗(yàn)科研陶瓷片尺寸規(guī)格可訂

高純實(shí)驗(yàn)銅鋅錫硫靶材太陽能薄膜材料CZTS磁控濺射靶材尺寸可選